Июль 2025 · пре-альфа
Первая управляющая программа
Windows Forms: таблица полей, у каждого своя позиция и время экспонирования — серии по дозе задавались вручную.
Главная · Прототип 1.0
Настольная безмасочная литография
Установка, которая доказала идею: проекционный литограф на DMD, экспонирующий фоторезист на реальных пластинах прямо из файла GDSII. Настольный прибор в корпусе, светодиод 440 нм, координатный столик XY на сервоприводах с замкнутым контуром по оптическим линейкам, камера, смотрящая через тот же объектив.
Построен и работает
Как это работает
Программируемый фотошаблон на подвижном столике
Как это работает
DMD TI DLP4710 — 1920 × 1080 микрозеркал — работает как программируемый фотошаблон. Каждый кадр топологии проецируется через микроскопный объектив на фоторезист; столик перемещается шагами, сшивая кадры в единый непрерывный рисунок.
Результаты
Сделано на этой установке
Фотографии, а не моделирование: экспонировано и проявлено на Прототипе 1.0.
Точность за счёт калибровки
Субмикронная точность здесь достигается не гранитом и аэростатическими подшипниками. Установка сама измеряет свою геометрию и освещённость камерой в плоскости пластины и компенсирует погрешности на каждом поле; с некалиброванным объективом программа экспонировать отказывается.
Топология GDSIIВ фоторезисте
5 мм
Топология → фоторезист
Топология и результат
Перетащите разделитель. Слева — файл GDSII, отправленный на установку; справа — фотография результата с исправленной перспективой, чтобы изображения совпали.
Кремниевый чип — 25 × 25 мм; топология на нём (логотип с подписями и четыре изображения с дизерингом) занимает 20 × 20 мм. Одно задание на экспонирование.
Установка экспонирует по одному кадру DMD: этот чип — 1 869 полей по 0,25 × 0,38 мм, уложенных столиком встык. Переключите изображение на Поля экспонирования и обратно и поищите швы.
Что получится в фоторезисте, зависит от проявления не меньше, чем от экспонирования: проявитель, время и температура — всё влияет на результат. Это образцы, полученные при отладке процесса. Работы Магритта и Эшера размыты с обеих сторон: они ещё охраняются авторским правом.
Технические данные
Целевые характеристики
Прототип 2.0. Оптическое ядро и программное обеспечение перенесены с Прототипа 1.0.
- Размер элемента
- 0,7–1 мкм типичномин. 0,4 мкм, зависит от оптики и резиста
- Площадь экспонирования
- 100 × 100 мммасштабируется до 200 × 200 мм
- Источник света
- Светодиод, 440 нмопция 405 нм · без лазера
- Повторяемость по XY
- 0,2 мкмзамкнутый контур по оптическим линейкам
- Обратная связь по положению
- Линейки 100 нмопционально до 2,5 нм
- Производительность
- ~2,8 мм²/мин при 1 мкм10×; ~0,9 мм²/мин при 0,5 мкм (20×)
- Модулятор света
- TI DLP4710 DMD1920 × 1080 микрозеркал
- Объективы
- 10× / 0,5 · 20× / 0,75сменные
- Подложки
- Si до 4″ · стекло · PCB
- Ход X / Y / Z
- ≥100 / ≥100 / 40 мм
- Входной формат
- GDSII напрямуюDXF — в отладке
- Крепление
- Сетка 25 мм, M6×1стандарт оптических столов
В разработке
- Послойное совмещениеповоротный вакуумный столик-держатель + процедура совмещения в программе
- Автоматическая смена объективамоторизованное переключение между 10× и 20×
- Опция: светодиод 405 нмдля элементов меньше 0,5 мкм и более широкого выбора фоторезистов
- Оптические линейки 2,5 нмдля повторяемости на уровне 25–50 нм
Сейчас это однослойная установка: экспонировал, проявил, готово. Если вашему процессу уже сейчас нужны многослойные структуры с совмещением, спросите меня о сроках.
Применения
Где применяется
Электроника и печатные платы
Платы с узкими проводниками и гибкие платы прямо из топологии — итерация за один день.
Микрофлюидика
Сети каналов, мастер-формы для PDMS, электроды на чипе.
MEMS и датчики
Рисунки в фоторезисте для травления, взрывной литографии (lift-off) и гальваники на Si до 4″.
Фотоника
Решётки, дифракционные элементы, тестовые волноводные структуры.
Разработка аккумуляторов
Тестовые ячейки на чипе, микроэлектродные платформы, микробатареи.
Образование и лаборатории
Без класса лазерной опасности, компактная, в корпусе — реальный цикл от GDSII до пластины.
Ход работ
Как я к этому пришёл
Год итераций. Пре-альфа работала на другом проекторе с первой программой на Windows Forms; Прототип 1.0 получил собственный столик, собственное программное обеспечение и процесс экспонирования со сшивкой полей.
Микроскоп, ×2
Июль 2025 · пре-альфа
Первые проявленные массивы лунок
Тестовые массивы в фоторезисте: каждый экспонирован одним проецируемым полем без сшивки и подписан своими параметрами экспонирования.
Доработка столика
Во фрезерный цех
Столик XY на фрезерном станке: установлена поворотная платформа, монтажная плоскость выведена фрезерованием.
2026
Прототип 1.0
Собственный столик на сервоприводах и оптических линейках, программа QtLithoCAN, автофокус и карта высот, задания со сшивкой полей по всей пластине — всё, что показано выше на этой странице.
На тестовом чипе из 1 869 полей экспонирования нет видимых швов.
Партнёрство
Ищу производственного партнёра и инвестора
Что я предлагаю: работающий Прототип 1.0, проект Прототипа 2.0, полную документацию и собственное программное обеспечение. От партнёра — производство, цепочка поставок и выход на рынок; структура сделки и объём инвестиций обсуждаются. Демонстрации и тестовое экспонирование образцов по договорённости.