ИЛЬЯ СИДОРОВБЕЗМАСОЧНАЯ ЛИТОГРАФИЯ ENRU Связаться
Главная · Калибровка · оба прототипа

Калибровка: установка измеряет сама себя

Камера ставится на столик сенсором вверх, в ту плоскость, где находилась бы пластина. Проектор рисует прямо на сенсоре, поэтому программа видит ровно то, что получил бы резист, — и по этому изображению измеряет геометрию, дозу и сшивку полей. Та же процедура переносится на Прототип 2.0.

Итог: допуски переносятся из механики в программу. Детали, направляющие и оптика не обязаны быть идеальными, и собирать установку идеально тоже не нужно — всё, что остаётся, измеряется и компенсируется. Поэтому детали дешевле, а сборка проще.

Наложение сетки полей после калибровки: правильная регулярная сетка Наложенная сетка полей до калибровки: наклонённые квадраты с неравными зазорами
ДоПосле
500 мкм
До → после

Что меняет калибровка

Перетащите разделитель. Измеренные половины — кадры камеры, снятые в плоскости пластины (один пиксель сенсора соответствует 3,75 мкм на подложке). Скомпенсированная половина белого поля иллюстрирует работу алгоритма коррекции на том же кадре.

Один квадратный кадр, экспонированный в 25 положениях столика и сведённый в одно изображение. До: поворот проектора относительно столика и неортогональность направляющих видны как наклонённые квадраты с неравными зазорами. После: каждое перемещение проходит через измеренную коррекцию 2 × 2.

Геометрия: одна матрица 2 × 2

Поворот проектора относительно столика, неортогональность направляющих X и Y и масштаб каждой оси измеряются вместе и применяются к каждому перемещению. Для субмикронного позиционирования на краю пластины 100 мм угол нужно знать с точностью около 4 угловых секунд.

Доза: попиксельная маска

Камера строит карту освещённости по полю; программа превращает её в маску ослабления на DMD и подбирает время экспонирования для каждого поля. Затем камера снова измеряет результат, и маска уточняется, пока поле не станет равномерным в пределах 2–3 %.

Два соседних поля экспонирования, окрашенные в зелёный и красный, стыкуются на сенсоре камеры
Проверка сшивки: два соседних поля, окрашенные в зелёный и красный, стыкуются на сенсоре.
Небольшая мозаика полей с массивом лунок, спроецированная на сенсор камеры, с подписями строк и столбцов
Небольшая мозаика полей с массивом лунок, лунки 3,2 мкм с гексагональным шагом 6,3 мкм, спроецированная на сенсор.
Итоговый результат · замкнутый контур

Освещённость равномерна в пределах 2–3 %

ОбъективДоПослеСамое тёмное / самое яркое
10×48.7 %97.8 %−2.2 %
20×63.0 %97.9 %−2.1 %
40×70.0 %97.2 %−2.8 %

Равномерность здесь — отношение самых тусклых 2 % поля (или самого тёмного угла, если он хуже) к самым ярким 2 %, измеренное через объектив и усреднённое по 256 кадрам. Для каждого объектива своя маска; она уточняется проход за проходом, пока очередной проход не перестаёт её улучшать. Июль–август 2026.

Итоговая маска равномерности для объектива 10x: каждый пиксель DMD приглушён до уровня от 60 до 100 процентов
Итоговая маска для 10×: там, где поле было самым ярким, DMD приглушает свои пиксели примерно до 60 %; самые тусклые области пропускают весь свет. Это негатив освещённости.
Партнёрство

Ищу производственного партнёра и инвестора

Что я предлагаю: работающий Прототип 1.0, проект Прототипа 2.0, полную документацию и собственное программное обеспечение. От партнёра — производство, цепочка поставок и выход на рынок; структура сделки и объём инвестиций обсуждаются. Демонстрации и тестовое экспонирование образцов по договорённости.